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小型等离子去胶机厂家

简要描述:小型等离子去胶机厂家的这款产品使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。内置双层气浴电极,有效提高清洗效率。配有节流阀,防止真空泵油雾回流。

  • 产品型号:PLUTO-MD(8L)
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-07-09
  • 访  问  量:3110

详细介绍

等离子去胶机

          PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机介绍:
 
  去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程,在电子束曝光,紫外曝光等微纳米加工工艺后,都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题,将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

等离子去胶机

 

等离子去胶机

 
  PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机特点:
 
  1. 桌面型,普通实验台即可安置。操作简便上手快、使用成本极低、易于维护。
 
  2.适合于4~6寸硅片及相同面积去胶,可选配硅片专用托盘。
 
  3.内置双层气浴电极,有效提高清洗效率。配有节流阀,防止真空泵油雾回流。可选配耐用电极,降低长时间使用后的腔体污染。
 
  4.配置200W/13.56MHz等离子发生器。兼顾物理作用和化学作用。
 
  5.具备前后吹扫功能,保证样品处理洁净度,可配置独立吹扫气路。
 
  6.可选配电极间距可调,对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。
 
等离子去胶机

           PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机参数:
 
等离子去胶机参数

           
        小型等离子去胶机应用: 
等离子去胶机
 

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