PLUTO-MH国产等离子刻蚀机是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离子化学反应，粉体等离子体处理等多种能力。

PLUTO-30型等离子清洗机,等离子处理机,等离子去胶机是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto 30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户的灵活性。

PLUTO-MH等离子清洗机/表面处理系统（实验平台）是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离子化学反应，粉体等离子体处理等多种能力。

PLUTO-MH国产等离子刻蚀机设备是一种用于微纳米加工的关键设备，主要用于半导体、光电子、纳米材料等领域的微细加工和表面处理。等离子刻蚀技术是半导体制造中的关键步骤，它在制备微电子器件、光电子器件、MEMS、太阳能电池等多种电子产品中发挥着重要作用。