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等离子去胶机的核心原理是利用高频电磁场激发气体分子,形成由离子、电子和活性自由基组成的等离子体。这种等离子体具有双重作用:一是物理轰击,高速离子撞击胶层表面,使...
[查看详情]在精密制造与科研领域,表面处理工艺的精度与环保性直接影响产品质量与生产效率。台式真空等离子清洗机凭借其技术优势,成为众多行业不可少的工具。本文将从设备优势与使用要点两方面展开,为用户提供全面指导。一、核心优势:多维度突破传统清洗局限纳米级清洁能力该设备通过高频电场激发气体形成等离子体,其活性粒子可深入材料表面微孔与凹陷区域,精准剥离分子级污染物(如油脂、氧化物),清洁精度达0.1纳米。相较于传统超声波清洗的微米级效果,等离子清洗为后续粘接、涂层等工艺提供了洁净的表面基础。例如...
[查看详情]应用案例
等离子清洗特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地进行超清洗。
图为PLUTO-T等离子清洗机对陶瓷基板上银氧化层的清洗实例。
等离子清洗机可用于晶圆或者电路板表面的光刻胶去除,以及去除光学元件、半导体元件表面的光阻材料等。
图为PLUTO-MD等离子去胶机对PCB板和硅片的去胶实例。
改善粘合力-用于光学元件、生物医学、封装领域等;
表面改性-用于高分子材料表面修饰、PDMS微流控芯片键合、玻璃等,增强表面粘附性、浸润性、相容性;
图为PLUTO-M对线路板、橡胶管和手机膜的表面改性实例。
等离子刻蚀是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。