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实验室等离子清洗机的选购是一个涉及多个因素的综合考虑过程。以下是一份详细的选购指南,目的是为了帮助您做出明智的选择:清洗目标:明确您需要清洗的样品类型、污染物种...
[查看详情]等离子去胶机是应用等离子技术进行表面处理的设备,具有高效、环保等特点,被广泛应用于汽车制造、电子设备维修以及半导体制造等领域。在这种技术的帮助下,材料表面的清洁、改性或涂层去除等工序得以精准且高效地完成。1.工作原理:等离子去胶机主要通过产生等离子体,即电离状态的气体,其中带电的粒子在电场的作用下高速运动,对目标材料表面进行轰击。这种高速轰击可以去除表面分子,实现清洁或表面改性的效果。在半导体制造过程中,等离子体技术被用于刻蚀工艺,其中的离子对被刻蚀的表面进行撞击,形成损伤层...
[查看详情]应用案例
等离子清洗特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地进行超清洗。
图为PLUTO-T等离子清洗机对陶瓷基板上银氧化层的清洗实例。
等离子清洗机可用于晶圆或者电路板表面的光刻胶去除,以及去除光学元件、半导体元件表面的光阻材料等。
图为PLUTO-MD等离子去胶机对PCB板和硅片的去胶实例。
改善粘合力-用于光学元件、生物医学、封装领域等;
表面改性-用于高分子材料表面修饰、PDMS微流控芯片键合、玻璃等,增强表面粘附性、浸润性、相容性;
图为PLUTO-M对线路板、橡胶管和手机膜的表面改性实例。
等离子刻蚀是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。