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等离子清洗机/表面处理系统

简要描述:PLUTO-MH等离子清洗机/表面处理系统(实验平台)是针对于高校,科学研究所和企业实验室,或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求,我们提供不同功能附件,在获得常规性能的同时,拥有表面镀膜(涂层),刻蚀,等离子化学反应,粉体等离子体处理等多种能力。

  • 产品型号:PLUTO-MH
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-05-22
  • 访  问  量:1315

详细介绍

品牌PLUTOVAC
  PLUTO-MH等离子清洗机/表面处理系统是种新型清洗设备,采用了等离子技术,可以清洗各种物品。它具有环保节能等特点,受到了广大消费者的青睐。其核心技术是等离子技术。等离子是一种高能态的物质,可以在较低的温度下产生强大的清洁效果。该技术利用气体分子间的碰撞和电子的激发来释放能量,并以此来清洗物品表面的污垢。
 
  PLUTO-MH等离子清洗机/表面处理系统(实验平台)特点:
 
  针对于对等离子体处理有严苛要求的场合中使用
 
  等离子源才用频率为13.56MHz射频发生器,兼顾物理反应和化学反应
 
  采用500W功率电源,自动阻抗匹配,高功率射频发生器可应对各种实验要求,保障高能量密度和高处理效率
 
  高精度真空度控制,适应各种处理需求
 
  316不锈钢腔体(或者6061铝合金),全不锈钢管路和连接件,适用各种气体(包含腐蚀性气体)
 
  4.3寸工业级触摸屏,软件操作方便,多种参数设置和工艺组合处理模式
 
  可增加多种配件,涂覆镀膜,电极温度控制,等离子体强度控制,等离子体化学反应等功能(如有特殊应用,请咨询销售人员)
 
  根据用户需求,提供对应等离子体处理方案和定制特殊用途设备
 

等离子清洗机
 

  PLUTO-MH等离子清洗机/表面处理系统(实验平台)参数:
 
  真空腔规格: 316不锈钢腔体,直径210mm*(深)230mm 约4L
 
  电极:两个自适应平板电极,材质T6061铝合金(可提供特氟龙包覆无孔平板电极,适合需要双面处理样品)
 
  电极尺寸:120*135mm 间距20~75mm 可调(可反转)
 
  等离子体发生器:RF射频发生器,频率:13.56MHz
 
  功率:0-500W连续可调,自动阻抗匹配,精度1W
 
  气体控制:针式气体流量阀,标配1路气体,全不锈钢管道和连接件
 
  控制方式:4.3寸工业控制触摸屏
 
  控制软件功能:界面显示实时工作状态,
 
  可显示设置值与实际值,便于实时控制。
 
  可自由设置等离子功率,通入气体时间
 
  多级操作权限,多种工艺参数组合控制,
 
  全手动控制和全自动控制可选
 
  保护装置:一键急停保护按钮
 
  (如需其他功能,请咨询销售人员)
 
  等离子清洗机的应用领域:
 
  配置不同模块,拓展不同应用
 
  加热电极模块-温度可控,可以加速等离子体处理速度和极大提高样品处理的均匀性
 
  沉积镀膜模块,改变表面特性:
 
  沉积CF材料,样品表面可以具有憎水的特性
 
  沉积含苯材料,样品表面起到绝缘防水的特性
 
  沉积含有羟基的材料,提高样品表面和其他材料的结合效果
 
  感应耦合模块-感应耦合等离子体装置
 
  气体混合装置
 
  可以根据可以要求进行混气设计
 
  气体纯化和反应
 
  气体纯化和使用等离子体与相关材料进行化学反应 

等离子清洗机

 

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