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PLUTO-F(14.5L)实验室方腔等离子清洗机

简要描述:PLUTO-F(14.5L)实验室方腔等离子清洗机/等离子体表面处理系统是一款功能强大的桌面型表面等离子体设备,非常适合于高校、科学研究所和企业实验室,或者小批量生产,需要低成本运作且高效处理的企业。它具备等离子设备几乎所有的功能,具有较大的腔体尺寸和灵活的电极配置方式。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-07-09
  • 访  问  量:1125

详细介绍

品牌PLUTOVAC产地类别国产
应用领域生物产业,能源,电子,制药,综合
  PLUTO-F(14.5L)实验室方腔等离子清洗机特点:
 
  1. 桌面型,性能稳定、操作简便、使用成本极低、易于维护,高性价比。
 
  2.小身材,有效处理面积大,可以轻松处理8寸硅片去胶等应用,最大可以处理203mm*203mm样品。
 
  3.采用气浴电极,清洗效率高。
 
  4.灵活的电极配置方案,最多可以处理2片8寸硅片
 
  5.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。
 


          PLUTO-F(14.5L)实验室方腔等离子清洗机参数:
 
  1.  真空腔规格: 材质6061-T6铝合金 240mm*300mm*200mm
 
  2.  电极:平板气浴电极,材质6061-T6铝合金
 
  3.  电极尺寸:205mm *205mm
 
  4.  频率:13.56MHz (可选配40KHz射频等离子源)
 
  5.  功率:0-500W连续可调,精度1W,可在设备运行中随时调整参数
 
  6.  气体控制:针式气体流量阀, 60-600ml   2路气体
 
  7.  真空计:电偶式真空计,精度:0.01mTor
 
  8.  控制方式:4.3寸工业控制触摸屏,全手动控制和全自动控制两种控制方式
 
  控制软件功能:界面显示实时工作状态
 
 

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