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合作案例

  • 清华大学采购PLUTO-T等离子清洗机
    清华大学采购PLUTO-T等离子清洗机 清华大学调研了众多等离子表面处理设备,最终选择了上海沛沅生产的Pluto-T等离子清洗机/表面处理机。根据客户的技术要求,提供了可以满足老师所有技术参数要求的Pluto-T等离子清洗机/表面处理机,以下为该设备的安装调试图。
  • 上海交大采购PLUTO-MC沉积镀膜设备
    上海交大采购PLUTO-MC沉积镀膜设备 2020年12月,上海交通大学采购我司PLUTO-MC沉积镀膜设备。该设备采用13.56MHz射频,涂覆面积为150*150mm,具备良好的稳定性与可重复性。
  • 电子科技大学采用Pluto-MD等离子去胶机进行晶圆去胶
    电子科技大学采用Pluto-MD等离子去胶机进行晶圆去胶 电子科技大学已采购多台等离子设备,包括PLUTO-T等离子清洗机,PLUTO-MD等离子去胶机等,用户反馈良好。主要涉及的应用有:晶圆光刻胶的去除、电子半导体样品表面有机物的去除、多功能微纳结构宽带吸收器的表面处理等等。

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企业新闻| CORPORATE NEWS

台式真空等离子清洗机的工作原理与应用价值

在现代精密制造、科研实验以及高技术产业领域,对材料表面洁净度与活性的要求日益严苛。传统的清洗方式,如溶剂清洗、超声波清洗等,虽然在一定程度上能够去除表面污垢,但...

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技术文章| Technical articles

等离子去胶机的选择要素可分为以下几点

等离子去胶机是半导体、电子制造及材料科学领域中用于去除表面有机残留(如光刻胶、聚合物)的关键设备,其核心原理是通过等离子体中的活性粒子与材料表面发生化学反应或物理轰击,实现高效、无损伤的清洁。选择合适的设备需综合评估处理需求、样品特性、操作效率及长期使用成本,以下从核心要素展开分析。一、明确处理需求与目标等离子去胶机的选择依据是处理对象的特性与目标。用户需先明确以下问题:污染物类型:若需去除光刻胶、抗反射层等有机物,需选择氧等离子体设备,其活性氧离子可高效分解碳链结构;若为金...

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应用案例

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