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台式真空等离子清洗机的应用范围非常广泛,如半导体芯片、LED芯片、MEMS元件、薄膜太阳能电池等微型器件。在这些器件的制造过程中,往往需要对表面进行清洁、去除杂...
[查看详情]在现代实验室中,保持实验器具的清洁和消毒至关重要。传统的清洁方法可能无法去除污垢和微生物,因此,越来越多的实验室开始采用先进的技术,如等离子清洗技术。实验室等离子清洗机利用等离子体技术,通过产生高能离子和自由基来清洁和消毒表面。其工作原理主要包括以下几个步骤:1.等离子体生成:清洗机内部产生等离子体,通常采用氧气、氮气或氩气等气体作为工作气体。2.离子和自由基反应:高能离子和自由基会与表面上的有机物、微生物等进行化学反应,破坏其结构并去除污垢。3.清洗和消毒:等离子体处理后,...
[查看详情]应用案例
等离子清洗特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地进行超清洗。
图为PLUTO-T等离子清洗机对陶瓷基板上银氧化层的清洗实例。
等离子清洗机可用于晶圆或者电路板表面的光刻胶去除,以及去除光学元件、半导体元件表面的光阻材料等。
图为PLUTO-MD等离子去胶机对PCB板和硅片的去胶实例。
改善粘合力-用于光学元件、生物医学、封装领域等;
表面改性-用于高分子材料表面修饰、PDMS微流控芯片键合、玻璃等,增强表面粘附性、浸润性、相容性;
图为PLUTO-M对线路板、橡胶管和手机膜的表面改性实例。
等离子刻蚀是干法刻蚀中常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。